2024年11月29日、フォトレジスト材料の基礎と高感度化を学ぶセミナー開催
ベストカレンダー編集部
2024年10月29日 05:14
フォトレジストセミナー
開催日:11月29日
AndTechが開催するフォトレジスト材料に関するセミナーの概要
株式会社AndTechは、2024年11月29日(金)に「フォトレジスト材料を中心とした感光性ポリマーの基礎と高感度化の手法について」というテーマでセミナーを開催します。このセミナーでは、東京理科大学の理工学部先端化学科の教授である有光晃二氏が講師を務め、最新の感光性ポリマー技術について深く掘り下げていきます。
近年、感光性ポリマーに対する需要が高まっており、特に光酸発生剤や光塩基発生剤を用いた技術が注目されています。本セミナーでは、これらの技術を用いた基礎知識や高感度化の手法について詳しく解説されます。
セミナーの詳細情報
本セミナーは、以下の詳細で開催されます。
- 開催日時:2024年11月29日(金) 12:30-16:30
- 参加費:45,100円(税込)
- WEB配信形式:会場運営セミナー
- 資料配布:電子にて資料配布予定
- URL:セミナー詳細
講師のプロフィール
講師を務める有光晃二氏は、東京理科大学理工学部先端化学科の教授であり、フォトレジスト材料や感光性ポリマーに関する豊富な知識と経験を持っています。彼の研究は、業界における技術革新に大きく寄与しており、参加者にとって非常に有益な内容となることでしょう。
セミナーで学べる内容
本セミナーでは、以下のような内容が扱われます。
- 光酸発生剤および光塩基発生剤を用いた感光性樹脂(レジスト、UV硬化)の基礎
- 酸増殖剤や塩基増殖剤を用いた高感度化の手法
- 硬化不良対策
これらのテーマは、現在の感光性ポリマー技術において非常に重要な要素であり、参加者は実践的な知識を得ることができます。
具体的なプログラム内容
セミナーのプログラムは以下の内容で構成されています。
- 1. 光酸発生剤
- 1-1 光酸発生剤の構造と特性
1-2 UV硬化への応用
1-3 化学増幅レジストへの応用 - 2. 酸増殖剤
- 2-1 酸増殖剤の構造と特性
2-2 化学増幅レジストの高感度化
2-3 UV硬化の高効率化・硬化不良対策 - 3. 光塩基発生剤
- 3-1 非イオン型光塩基発生剤の特性と応用
3-2 イオン型光塩基発生剤の特性と応用 - 4. 塩基増殖剤
- 4-1 塩基増殖剤の構造と特性
4-2 光パターニング材料への応用
4-3 UV硬化の高効率化・硬化不良対策 - 5. まとめ
- 質疑応答
株式会社AndTechについて
株式会社AndTechは、神奈川県川崎市に本社を置き、化学、素材、エレクトロニクス、自動車、エネルギー、医療機器、食品包装、建材など、幅広い分野の研究開発(R&D)を支援するサービスを提供しています。AndTechは、技術講習会やセミナーの開催に加え、講師派遣、出版、コンサルタント派遣、市場動向調査、ビジネスマッチング、事業開発コンサルなど、多岐にわたるサービスを展開しています。
クライアントのニーズに応じた効果的な支援を提供し、技術革新を促進することを目指しています。
AndTechの提供するサービス
AndTechでは、以下のようなサービスを展開しています。
- 技術講習会・セミナー:一流の講師によるWEB講座セミナーを毎月多数開催。
- 書籍出版:選りすぐりのテーマから、ニーズの高い書籍を発行。
- コンサルティングサービス:経験豊富な専門技術コンサルタントを派遣。
まとめ
2024年11月29日に開催されるAndTechのセミナーでは、フォトレジスト材料や感光性ポリマーに関する基礎知識や高感度化の手法について学ぶことができます。講師の有光晃二氏による詳細な解説は、参加者にとって貴重な経験となるでしょう。興味のある方は、ぜひ参加を検討してみてください。
項目 | 詳細 |
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セミナー名 | フォトレジスト材料を中心とした感光性ポリマーの基礎と高感度化の手法について |
開催日時 | 2024年11月29日(金) 12:30-16:30 |
参加費 | 45,100円(税込) |
講師 | 有光晃二氏(東京理科大学教授) |
WEB配信形式 | 会場運営セミナー |
詳細URL | こちら |
このセミナーは、フォトレジストや感光性ポリマーに関する技術を深く理解するための良い機会となるでしょう。参加を希望される方は、早めにお申し込みを検討してください。
参考リンク: